Intel хоёр чипний үйлдвэр барихад дахин 20 тэрбум долларын хөрөнгө оруулалт хийж байна.“1.8нм” технологийн хаан эргэн ирлээ

Орон нутгийн цагаар 9-р сарын 9-нд Intel-ийн гүйцэтгэх захирал Киссинжер АНУ-ын Охайо мужид шинэ том хэмжээний вафель үйлдвэр барихад 20 тэрбум ам.долларын хөрөнгө оруулалт хийхээ мэдэгдэв.Энэ нь Intel-ийн IDM 2.0 стратегийн нэг хэсэг юм.Хөрөнгө оруулалтын төлөвлөгөө бүхэлдээ 100 тэрбум долларт хүрсэн.Шинэ үйлдвэр 2025 онд олноор үйлдвэрлэгдэх төлөвтэй байна. Тэр үед “1.8 нм” процесс нь Intel-ийг хагас дамжуулагчийн тэргүүлэгч байр сууринд буцаан авчирна.

Өнгөрсөн оны 2-р сард Intel-ийн гүйцэтгэх захирал болсноосоо хойш Киссинжер АНУ болон дэлхийн өнцөг булан бүрт үйлдвэрүүдийн бүтээн байгуулалтыг эрчимтэй дэмжсээр ирсэн бөгөөд үүний дор хаяж 40 тэрбум ам.долларын хөрөнгө оруулалтыг АНУ-д хийжээ.Өнгөрсөн жил тэрээр Аризона мужид 20 тэрбум ам.долларын хөрөнгө оруулалт хийж, валютын үйлдвэр барихаар болжээ.Энэ удаад тэрээр Охайо мужид 20 тэрбум ам.долларын хөрөнгө оруулалт хийж, мөн Нью Мексикод лацдан холболтын болон туршилтын шинэ үйлдвэр байгуулжээ.

Intel хоёр чипний үйлдвэр барихад дахин 20 тэрбум долларын хөрөнгө оруулалт хийж байна.“1.8нм” технологийн хаан эргэн ирлээ

Intel үйлдвэр нь мөн 52.8 тэрбум ам.долларын чипийн татаасын хуулийн төслийг баталсны дараа АНУ-д шинээр баригдсан хагас дамжуулагч чипний томоохон үйлдвэр юм.Ийм учраас нээлтийн ёслолд АНУ-ын ерөнхийлөгч, Охайо мужийн амбан захирагч болон орон нутгийн албаны бусад өндөр албан тушаалтнууд оролцов.

Intel хоёр чипний үйлдвэр барихад дахин 20 тэрбум долларын хөрөнгө оруулалт хийж байна.“1.8нм” технологийн хаан эргэн ирлээ

Intel-ийн чипний үйлдвэрлэлийн бааз нь найм хүртэлх үйлдвэр, экологийн дэмжлэгийн системийг багтаах боломжтой хоёр талст ялтсын үйлдвэрээс бүрдэх болно.Энэ нь бараг 1000 акр буюу 4 хавтгай дөрвөлжин км талбайг хамардаг.Энэ нь 3000 өндөр цалинтай ажлын байр, 7000 барилгын ажлын байр, нийлүүлэлтийн сүлжээний хамтын ажиллагааны хэдэн арван мянган ажлын байр бий болгоно.

Эдгээр хоёр өргүүрийн үйлдвэр 2025 онд бөөнөөр нь үйлдвэрлэгдэх төлөвтэй байна. Intel үйлдвэрийн үйл явцын түвшинг тусгайлан дурдаагүй ч Intel 4 жилийн дотор 5 үеийн CPU-ийн процессыг эзэмшинэ гэж өмнө нь мэдэгдэж байсан бөгөөд 20a-г бөөнөөр нь үйлдвэрлэнэ гэж хэлсэн. 2024 онд 18а хоёр үеийн процесс. Тиймээс энд байгаа үйлдвэр мөн тэр үед 18а процессыг үйлдвэрлэх ёстой.

20a болон 18a нь найзуудын 2 нм ба 1.8 нм процесстой тэнцэхүйц EMI түвшинд хүрсэн дэлхийн анхны чип процессууд юм.Тэд мөн Intel-ийн хар технологийн хоёр технологи болох ribbon FET болон powervia-г гаргах болно.

Intel-ийн хэлснээр, ribbonfet нь Intel-ийн транзисторыг тойрсон хаалганы хэрэгжилт юм.Энэ нь тус компани 2011 онд FinFET-ийг анх нэвтрүүлснээс хойшхи анхны цоо шинэ транзисторын архитектур болох юм. Энэхүү технологи нь транзисторыг солих хурдыг хурдасгаж, олон сэрвээтэй бүтэцтэй ижил жолоодлогын гүйдэлд хүрдэг боловч бага зай эзэлдэг.

Powervia нь Intel-ийн өвөрмөц бөгөөд салбарын анхны арын цахилгаан дамжуулах сүлжээ бөгөөд цахилгаан хангамжийн хэрэгцээг арилгаснаар дохионы дамжуулалтыг оновчтой болгодог.